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    圓形真空爐膽

    圓形真空爐膽是真空熱處理設(shè)備中的核心部件,主要用于高溫環(huán)境下對材料進(jìn)行無氧化、無脫碳的精密熱處理。
    產(chǎn)品描述

      核心功能與優(yōu)勢

      真空環(huán)境:爐膽內(nèi)部抽真空(通?!?0?3Pa),消除氧氣和水蒸氣,防止材料氧化、脫碳,尤其適合鈦合金、不銹鋼等活性金屬。

      均勻加熱:圓形結(jié)構(gòu)利于熱場均勻分布(溫差可控制在±5℃以內(nèi)),避免工件變形。

      高溫性能:采用鉬、鎢或石墨等耐高溫材料(可達(dá)2200℃),配合多層隔熱設(shè)計(jì)減少熱損失。

      典型結(jié)構(gòu)與材料

      主體材料:

      金屬型:不銹鋼(≤1000℃)、鉬(1600℃)、鉭(2200℃),需電解拋光降低放氣率。

      非金屬型:高純石墨(抗氧化涂層處理)、陶瓷纖維(快速升溫)。

      多層設(shè)計(jì):

      內(nèi)膽:直接接觸高溫,選用高純度材料。

      隔熱層:多層鉬片或石墨氈,反射熱輻射。

      冷卻系統(tǒng):外置水冷夾套(快速降溫至300℃以下)。

      關(guān)鍵制造工藝

      焊接技術(shù):氬弧焊或電子束焊確保真空密封,焊縫漏率<1×10?1?Pa·m3/s。

      表面處理:內(nèi)壁鏡面拋光(Ra≤0.4μm)減少氣體吸附。

      支撐結(jié)構(gòu):陶瓷立柱或水冷電極,避免熱變形傳導(dǎo)。

      應(yīng)用場景

      航空航天:渦輪葉片的熱等靜壓(HIP)處理。

      半導(dǎo)體:硅晶圓的退火工藝(要求金屬污染<0.1ppm)。

      工具鋼:模具真空淬火(硬度HRC60以上)。